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标准编号：T/NXCL 29-2024
中文名称：300 mm低氧含量直拉硅单晶抛光片
英文名称：300 mm low oxygen content single crystaline Czochralski silicon polished wafers
发布部门：宁夏材料研究学会
发布日期：2024-02-06
实施日期：2024-02-06
标准状态：现行
标准页数：8页
内容简介：本文件规定了 300 mm 低氧含量直拉硅单晶抛光片的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容和质量承诺等方面的内容。本文件适用于直径 300 mm 低氧含量直拉硅单晶磨削片经单面或双面抛光制备的硅单晶抛光片，产品主要用于满足绝缘栅双极晶体管（IGBT）等功率器件技术需求的衬底片。
T_NXCL 29-2024 300 mm低氧含量直拉硅单晶抛光片.pdf
(454.3 KB)
标准文档截图：
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发表于 2024-2-6