|
|
标准编号:T/CAS 304-2018
中文名称:磁控溅射硅靶材及绑定靶材
英文名称:Magnetron sputtering silicon targets and bound targets
发布部门:中国标准化协会
发布日期:2018-05-29
实施日期:2018-05-29
标准状态:现行
标准页数:13页
内容简介:本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单(或合同)内容。本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。
T_CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材.pdf
(4.59 MB)
标准文档截图:
 |
|