标准编号：YS/T 935-2013
中文名称：电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
英文名称：Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布部门：工业和信息化部
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
标准状态：现行
标准页数：5页
内容简介：本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。 YS_T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量.pdf(1.34 MB)
发表于 2022-3-3 14:25:18
