SJ 21199-2016 卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法

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发表于 2020-2-6 | 显示全部楼层 |阅读模式

标准编号：SJ 21199-2016
中文名称：卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法
英文名称：Technological verification procedures for horizontal plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布部门：国家国防科技工业局
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01

SJ 21199-2016 卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法.pdf (4.25 MB)

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