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标准编号：SJ/T 11490-2015
中文名称：低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量方法
英文名称：Test method for measuring etch pit density(EPD)in low dislocation density gallium arsenide wafers
发布部门：中华人民共和国工业和信息化部
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
SJT 11490-2015 低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量方法.pdf
(3.12 MB)
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发表于 2018-11-19